近日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程，预计2022年年初开始出货，2024年实现大规模生产。 新一代EUV光刻机分辨率提升70％ 据悉，新一代EUV光刻机EXE：5000系列，NA（数值孔径）为0．55，NA大小则代表了光刻机的精度高低，NA数值越大，光刻机精度更高。 现在ASML生产的EUV光刻机都是第一代产品，主要是NXE：3400B和改进型的NXE：3400C，两者结构相似，物镜系统的NA（数值孔径）为0．33。这意味着新

3月1日消息，据国外媒体报道，在消费电子产品需求下降，导致内存芯片价格和需求下降的背景下，在内存芯片中占相当比例的韩国半导体出口产业也受到了很大影响,出口大幅减少。 从国外媒体最新报道来看，韩国半导体出口下滑的趋势仍在持续。在刚刚过去的2月份，出口额与去年同期相比不足60%。 据韩国贸易产业能源部公布的最新数据显示，2月半导体产品出口额为59.6亿美元，远低于去年同期的103.7亿美元，同比下降42.5%。 除半导体产品外，韩国2月份面板出口同比也大幅下降，降至11.2亿美元，同比下降40.9