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近日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程,预计2022年年初开始出货,2024年实现大规模生产。 新一代EUV光刻机分辨率提升70% 据悉,新一代EUV光刻机EXE:5000系列,NA(数值孔径)为0.55,NA大小则代表了光刻机的精度高低,NA数值越大,光刻机精度更高。 现在ASML生产的EUV光刻机都是第一代产品,主要是NXE:3400B和改进型的NXE:3400C,两者结构相似,物镜系统的NA(数值孔径)为0.33。这意味着新
3月1日消息,据国外媒体报道,在消费电子产品需求下降,导致内存芯片价格和需求下降的背景下,在内存芯片中占相当比例的韩国半导体出口产业也受到了很大影响,出口大幅减少。 从国外媒体最新报道来看,韩国半导体出口下滑的趋势仍在持续。在刚刚过去的2月份,出口额与去年同期相比不足60%。 据韩国贸易产业能源部公布的最新数据显示,2月半导体产品出口额为59.6亿美元,远低于去年同期的103.7亿美元,同比下降42.5%。 除半导体产品外,韩国2月份面板出口同比也大幅下降,降至11.2亿美元,同比下降40.9
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